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2013-05-23 12:21
求翻译：For wet chemical etching of wafers such as strained silicon on insulator (sSOI) wafer with silicon-germanium (SiGe) layer, using single wafer type processing equipment.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
For wet chemical etching of wafers such as strained silicon on insulator (sSOI) wafer with silicon-germanium (SiGe) layer, using single wafer type processing equipment.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
为晶片，例如在绝缘体上（SSOI）晶片与硅 - 锗（SiGe）层，利用单晶片型加工设备的应变硅的湿法化学蚀刻。
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2013-05-23 12:23:18
对薄酥饼湿化工蚀刻例如与硅锗(西赫)层数的紧张的绝缘体上硅薄膜(sSOI)薄酥饼，使用唯一薄酥饼类型处理设备。
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2013-05-23 12:24:58
为薄酥饼湿化工蚀刻例如被劳损的硅在绝缘体 (sSOI) 薄酥饼以硅锗 (SiGe) 层数，使用唯一薄酥饼类型处理设备。
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2013-05-23 12:26:38
为湿式化学蚀刻的晶圆片如劳损硅硅锗 (SiGe) 层，使用的单晶片类型加工设备绝缘子 (sSOI) 晶片上。
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2013-05-23 12:28:18
湿化学蚀刻的晶片,这种芯片的绝缘紧张[ssoi]晶片与硅锗(SiGe)层,使用单晶片类型处理设备。
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