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2013-05-23 12:21
求翻译：The method permits to thin the thin silicon layer for obtaining the ultra thin silicon layer whose thickness is lower than or equal to 150 nanometers, thus limiting roughness of the ultra thin layer and limiting risk of dissolution of buried silicon dioxide layer.是什么意思？ 待解决
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The method permits to thin the thin silicon layer for obtaining the ultra thin silicon layer whose thickness is lower than or equal to 150 nanometers, thus limiting roughness of the ultra thin layer and limiting risk of dissolution of buried silicon dioxide layer.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
该方法允许对薄的薄硅层获得的超薄硅层，其厚度小于或等于150纳米，从而限制了超薄层的粗糙度和限制掩埋氧化硅层的溶解的危险。
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2013-05-23 12:23:18
方法允许变薄获得的厚度是小于或等于150毫微米，因而限制坎坷超薄层和限制被埋没的二氧化硅层的溶解的风险的超稀薄的硅层数稀薄的硅层数。
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2013-05-23 12:24:58
方法许可证变薄稀薄的硅层数为获得厚度低比或均等到150毫微米的超稀薄的硅层数，因而限制坎坷超薄层和限制被埋没的二氧化硅层的溶解的风险。
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2013-05-23 12:26:38
该方法允许以薄薄的硅层获取其厚度是低于或等于 150 纳米超薄膜硅层、 从而限制粗糙度的超低薄层和限制的埋地的硅氧化层溶解的风险。
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2013-05-23 12:28:18
许可证的方法瘦瘦硅层获得超薄硅层的厚度小于或等于150纳米,从而限制粗糙度的超薄层和限制风险的埋在解散的二氧化硅层。
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