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2013-05-23 12:21
求翻译：Oxidized semiconductor wafer surface preparation method for use in e.g. optics field, involves treating etched wafer surface by hydrochloric acid at specific temperature for preset time, to remove isolated particles from surface是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Oxidized semiconductor wafer surface preparation method for use in e.g. optics field, involves treating etched wafer surface by hydrochloric acid at specific temperature for preset time, to remove isolated particles from surface
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
在例如使用氧化半导体晶片表面的制备方法光学领域，涉及到治疗蚀刻硅片表面用盐酸在特定的温度预设的时间，从表面清除颗粒分离
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2013-05-23 12:23:18
即被氧化的半导体片表面处理方法用于光学调遣，介入对待被铭刻的薄酥饼表面由盐酸在被预先设定的时刻的具体温度，从表面去除被隔绝的微粒
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2013-05-23 12:24:58
被氧化的半导体片表面处理方法用于即。 光学领域，介入对待被铭刻的薄酥饼表面由盐酸在具体温度为被预先设定的时刻，从表面去除被隔绝的微粒
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2013-05-23 12:26:38
在例如光学领域中使用的氧化的半导体硅片表面制备方法涉及到治疗由盐酸在特定温度为预设的时间，若要删除孤立的粒子从表面蚀刻的硅片表面
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2013-05-23 12:28:18
氧化半导体晶片表面处理方法,例如光学”字段中,涉及到处理晶片表面蚀刻的盐酸在特定的温度预设的时间,以去除颗粒表面隔离
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