|
关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：Substrate e.g. silicon on insulator substrate, manufacturing method, involves forming superficial amorphous layer in part of thin layer by implantation of atomic species in thin layer, and recrystallizing amorphous layer是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Substrate e.g. silicon on insulator substrate, manufacturing method, involves forming superficial amorphous layer in part of thin layer by implantation of atomic species in thin layer, and recrystallizing amorphous layer
问题补充： |
|
2013-05-23 12:21:38
例如基板绝缘体上的硅衬底的制造方法，涉及在薄膜层的部分形成浅表非晶层通过原子物质在薄膜层的注入，和重结晶的无定形层
|
|
2013-05-23 12:23:18
即基体绝缘体上硅薄膜基体，制造方法，介入形成表面无定形的层数薄层的一部分由原子种类的安放在薄层的和重结晶无定形的层数
|
|
2013-05-23 12:24:58
基体即。 硅在绝缘体基体，制造方法，在薄层介入形成表面无定形的层数薄层的一部分由原子种类的安放和重结晶无定形的层数
|
|
2013-05-23 12:26:38
基板上绝缘衬底，制造方法，例如硅涉及部分的薄层表面非晶层形成由原子种类的薄层，植入和 recrystallizing 非晶层
|
|
2013-05-23 12:28:18
基材例如芯片的绝缘基材、制造方法,包括形成表面非晶层的一部分植入层薄的物种的原子层薄,recrystallizing非晶层
|
湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区
