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2013-05-23 12:21
求翻译：Positive and negative substrates detaching method for forming silicon on insulator structure, involves regulating annealing of delamination of substrates to reduce inhomogeneities of temperature at surface during opening of chamber是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Positive and negative substrates detaching method for forming silicon on insulator structure, involves regulating annealing of delamination of substrates to reduce inhomogeneities of temperature at surface during opening of chamber
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
正面和负面的基板分离方法形成绝缘体上硅结构，涉及到调节基质分层退火开口室的过程中，以减少温度的不均匀性在表面
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2013-05-23 12:23:18
在房间期间，开头分开形成的正面和消极基体绝缘体上硅薄膜结构方法，介入调控基体的分层法焖火减少温度多相性在表面
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2013-05-23 12:24:58
分开方法为形成的正面和消极基体硅在绝缘体结构，介入调控基体的分层法焖火减少温度多相性在表面在房间期间开头
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2013-05-23 12:26:38
积极和消极的衬底分离方法形成硅绝缘子结构，涉及规管退火的分层的基板，在分庭的开幕期间减少在表面温度的不均匀性
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2013-05-23 12:28:18
积极的和消极的承印物分离方法形成芯片的绝缘结构,涉及到调节退火剥离的承印物,减少温度的不均匀性在表面上的分庭
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