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2013-05-23 12:21
求翻译：700 °C for 4 h under a dry oxygen flux in order to obtain the Finally, the thin film layers were annealed at 700 °C for 4 h under a dry oxygen flux in order to obtain the desired structure. After deposition, the rest of the solutionwas dried at 100 °C, providing powders with the same composition as the thin films.是什么意思？ 待解决
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700 °C for 4 h under a dry oxygen flux in order to obtain the Finally, the thin film layers were annealed at 700 °C for 4 h under a dry oxygen flux in order to obtain the desired structure. After deposition, the rest of the solutionwas dried at 100 °C, providing powders with the same composition as the thin films.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
700°C在为了获得4小时干燥的氧气通量下，终于，薄膜层进行退火700°C下干燥的氧气通量为4小时，以获得所需的结构。沉积后，其余的solutionwas在100°C干燥，粉体与薄膜的成分相同。
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2013-05-23 12:23:18
700°c4h在一个干燥氧气助焊剂,以获得最后,薄膜层退火在700°c4h在一个干燥氧气助焊剂,以获得想要的结构。 沉积后,其余的solutionwas干燥的100°c,与相同,组成提供粉末的薄膜。
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2013-05-23 12:24:58
700 °C为4 h在干燥氧气涨潮之下为了获得终于，薄膜层数锻炼在700 °C为4 h在干燥氧气涨潮之下为了得到期望结构。 在证言以后， solutionwas的其余烘干了在100 °C，提供粉末以构成和薄膜一样。
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2013-05-23 12:26:38
为了获得干燥氧气流量下 4 小时 700 ° C 的薄膜层被最后，在 700 ° C 下干燥氧气流量 4 小时退火为了获得所需的结构。后沉积，其余的 solutionwas 干 100 ° c，提供作为薄膜材料的相同成分的粉末。
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2013-05-23 12:28:18
对于在干氧气变迁下的 4 h 的 700 ° C 以获得最终，薄电影分
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