当前位置:首页 » 翻译 
  • 匿名
关注:1 2013-05-23 12:21

求翻译:500 nm-thick layer of SiO2 is deposited by ionic sputtering over the first metallisation,是什么意思?

待解决 悬赏分:1 - 离问题结束还有
500 nm-thick layer of SiO2 is deposited by ionic sputtering over the first metallisation,
问题补充:

  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
离子溅射沉积500 nm厚的SiO2层在第一金属化,
  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
500纳米厚的sio2层交存的深层离子溅射法在第一个银金属化适用于钳位。
  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
离子飞溅放置SiO2 500 nm厚实的层数第一金属化,
  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
500 nm 厚层的 SiO2 被溅射离子在第一次敷,
  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
SiO2 的 500 nm 拥挤的层被储存所作离子在第一用金属处理上喷溅,
 
 
网站首页

湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区

 
关 闭