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2013-05-23 12:21
求翻译：(1) GF is deleted from the retainer to avoid GF scratching, as shown in Fig. 5(b) and (c); (2) small amount of rare earth metal fluorinated compound (REMF) and Au were mixed into MoS2 target during later experiment to improve the wear resistance of MoS2 film [9], whose worn topographies were comparatively shown in Fig.是什么意思？ 待解决
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(1) GF is deleted from the retainer to avoid GF scratching, as shown in Fig. 5(b) and (c); (2) small amount of rare earth metal fluorinated compound (REMF) and Au were mixed into MoS2 target during later experiment to improve the wear resistance of MoS2 film [9], whose worn topographies were comparatively shown in Fig.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
（1）GF是从固定器中删除，以避免刮伤GF，如图所示。 5（b）及（三），（2）少量稀土金属氟化合物（remf）和Au混合成二硫化钼的目标，在以后的实验，以改善MoS2薄膜[9]的耐磨性，其磨损形貌相对见图。 6（3）arcion镀锡复合膜沉积在球的表面，以开发防刮伤的球，如图所示。 5（B）。
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2013-05-23 12:23:18
(1)从固定器gf是删除,避免gf刮伤,如中所示图。 5(b)和(c);(2)少量的稀土金属氟化合物(remf)和au混在了实验在后来到mos2目标为改善耐磨性的mos2电影[9],其磨损是集成电路中所示图比较。 6;(3)交存arcion镀锡复合膜上从头开始开发球表面的电阻的球,如图所示的图。 5(b)。
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2013-05-23 12:24:58
(1) GF从保留被删除避免抓，如所显示的GF。 5 (b)和(c); (2)小量的稀土元素金属fluorinated化合物(REMF)和Au是混杂的入MoS2目标在最新实验期间改进耐磨性MoS2影片(9)，破旧的地势比较显示在。 6; (3) arcion被镀的罐子综合影片在球表面被放置开发球抓抵抗，如所显示。 5 (b)。
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2013-05-23 12:26:38
(从，以免 GF 划，如图 5 (b) 和 (c) ； 中所示的固定器删除 GF 1)(2) 小额的稀土金属氟化合物 (REMF) 和非盟涨跌到基体目标提高耐磨性的基体电影 [9]，其磨损的地形相对了示图 6 ； 后来试验期间(3) arcion 镀 TiN 复合膜交存开发抗划伤性的球，球表面上如图 5 (b) 中所示。
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2013-05-23 12:28:18
(1)GF 从固定器中被删除回避抓的 GF，如无花果所示。5(b) 和 (c) ；(2) 少量稀土元素的氧化物金属在饮水中加少量的氟化合物 (REMF) 和 Au 在更迟的试验期间被掺和成 MoS2 目标提高 MoS2 电影的穿戴电阻 (9)，其疲惫的 topographies 在无花果比较地被显示。6 ；(3)arcion 覆镀 TiN 合成物电影在球表面被储存开发球的抓痕抵抗，如无花果所示。5(b).
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