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2013-05-23 12:21
求翻译：Some (Ti, Cr)Nx films were deposited on a glass substrate by reactive cathodic sputtering. This kind of substrate was chosen to evaluate the electrochemical properties of the deposit without any galvanic coupling with a metal substrate. The TiCr ratio in the coatings was varied by using different TiCr area ratios in th是什么意思？ 待解决
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Some (Ti, Cr)Nx films were deposited on a glass substrate by reactive cathodic sputtering. This kind of substrate was chosen to evaluate the electrochemical properties of the deposit without any galvanic coupling with a metal substrate. The TiCr ratio in the coatings was varied by using different TiCr area ratios in th
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
（钛，铬）NX活性阴极溅射薄膜沉积在玻璃基板上。这种基板选择，评估没有任何一个金属基板的电耦合存款的电化学性能。在涂料TiCr比例的不同使用不同的TiCr面积比阴极。奥格分析和X射线衍射进行了表征的化学成分和微观结构产生的各种氮化涂料。双金属氮化物的X射线衍射表征表明FCC的存在结构与衍射峰位于之间的TiN和CrN阶段。由于铬量的增加，我们观察到对社区复康网络峰这些山峰的转变，越来越微晶结构的外观。附益铬似乎很有趣尽可能氮化钛的耐腐蚀性。
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2013-05-23 12:23:18
一些(Ti,CR)NX电影是存放在一个玻璃基板的活性阴极溅射。 这种选择的衬底是以评价电化学属性的存款没有任何Galvanic配套与一个金属基板。 在涂料的ticr比率在更改ticr地区使用不同的比率在陰極銅。 奥热分析和X光衍射被用来描述的化学组成和微结构的各
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2013-05-23 12:24:58
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2013-05-23 12:26:38
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2013-05-23 12:28:18
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