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  • 匿名
关注:1 2013-05-23 12:21

求翻译:100nm a-Si active layer was deposited by low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD).是什么意思?

待解决 悬赏分:1 - 离问题结束还有
100nm a-Si active layer was deposited by low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD).
问题补充:

  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
低压化学气相沉积(LPCVD)为100nm的a - Si有源层沉积。
  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
100nm a-Si活动图层交存了低压力化学蒸气淀积(lpcvd)。
  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
低压化学气相沉积放置100nm Si活跃层数(LPCVD)。
  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
低压化学气相沉积 (LPCVD) 存放 100nm A-si 现用图层。
  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
低压化学气相沉积 (LPCVD) 存放 100nm A-si 现用图层。
 
 
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