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关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：When appropriate masks are used to cover parts of the reflectors, independent measurements of slices of the intensity distribution of each of the interfering beams together with the interference pattern can be obtained on a single frame是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
When appropriate masks are used to cover parts of the reflectors, independent measurements of slices of the intensity distribution of each of the interfering beams together with the interference pattern can be obtained on a single frame
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
当适当的掩模被用于覆盖所述反射器的部分，可以在单个帧中获得的每个干涉光束连同干涉图样的强度分布的切片的独立测量
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2013-05-23 12:23:18
当适当的面具用于包括反射器时的零件，切片的独立测量其中每一的强度发行条与干扰图一起的干涉的射线在一个唯一框架可以得到
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2013-05-23 12:24:58
当适当的面具用于包括反射器时的零件，每一条干涉的射线的强度发行的切片的独立测量与干扰图一起在一个唯一框架可以得到
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2013-05-23 12:26:38
当适当的口罩用来支付部分的反射器时，可以在单个帧上获得独立测量的每个的干扰与干扰模式梁的强度分布的切片
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2013-05-23 12:28:18
适当的面罩用于包括反射器的几个部分时，和干涉模式每个爱管闲事的横梁的强度分配的薄片的独立度量法可以在单个的框架被获取
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