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关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：because the annealing temperature is as low as 550 ℃ in this case. The silicon is an addition to the Al bath . Already at 420 ℃the dissolution of the Al layer starts and is completed at 600 ℃是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
because the annealing temperature is as low as 550 ℃ in this case. The silicon is an addition to the Al bath . Already at 420 ℃the dissolution of the Al layer starts and is completed at 600 ℃
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
正在翻译，请等待...
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2013-05-23 12:23:18
正在翻译，请等待...
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2013-05-23 12:24:58
因为焖火温度在这种情况下是一样低的象550 ℃ 。 硅是加法对Al浴。 已经在420 ℃ Al层数的溶解开始和完成在600 ℃
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2013-05-23 12:26:38
因为在这种情况下，退火温度是低至 550 ℃。硅是 Al 浴。已经在 420 ℃ 的铝层溶解启动并完成在 600 ℃
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2013-05-23 12:28:18
因为退火温度可低至550°℃,这种情况下。 该芯片是一个除了阿尔浴。 在420°℃已经解散的阿尔图层将启动,并已完成在600°℃
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