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2013-05-23 12:21
求翻译：Method for treating semiconductor on insulator structure used for manufacturing e.g. memory components, involves forming areas at surface of semiconducting layer and exposing crystallographic orientation different from rest of surface是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Method for treating semiconductor on insulator structure used for manufacturing e.g. memory components, involves forming areas at surface of semiconducting layer and exposing crystallographic orientation different from rest of surface
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
用于制造如法的绝缘体结构半导体治疗内存组件，涉及在半导体层的表面形成区域和揭露晶体取向从表面与众不同
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2013-05-23 12:23:18
对待的半导体即方法在为制造存储成份使用的绝缘体结构，介入形成区域在半导体的层表面和暴露晶体取向与其余表面不同
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2013-05-23 12:24:58
方法为在用于制造业的绝缘体结构对待半导体即。 存储成份，介入形成区域在半导体的层表面和暴露晶体取向与其余表面不同
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2013-05-23 12:26:38
对绝缘子结构如制造的内存组件，用于处理半导体的方法涉及到成型表面上的半导电层和揭露晶体学方向从表面的其余部分不同的领域
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2013-05-23 12:28:18
治疗方法半导体的绝缘结构用于制造例如内存组件,涉及领域形成表面上的半导电屏蔽层,使结晶学会从其他方向不同的表面
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