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2013-05-23 12:21
求翻译：Producing process for microelectromechanical system (MEMS) structure involves forming surface layer on insulating layer, formed with areas of material of different etching rate through cavities on lower wafer, by thinning top wafer是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Producing process for microelectromechanical system (MEMS) structure involves forming surface layer on insulating layer, formed with areas of material of different etching rate through cavities on lower wafer, by thinning top wafer
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
用于微机电系统的制造过程（MEMS）结构涉及形成表面层上的绝缘层，通过在较低的晶片的空腔形成有不同的蚀刻速率的材料制成的区域，通过减薄顶部晶片
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2013-05-23 12:23:18
生产处理为微电动机械的系统(MEMS)结构介入形成在绝缘层的表层，被形成与另外蚀刻率材料区域通过在更低的薄酥饼的洞，通过变薄顶面薄酥饼
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2013-05-23 12:24:58
生产处理为microelectromechanical系统 (MEMS) 结构在绝缘层在更低的薄酥饼介入形成表层，被形成以另外蚀刻率材料区域通过洞，通过变薄顶面薄酥饼
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2013-05-23 12:26:38
生产过程的微电子机械系统 (MEMS) 结构涉及到表面层形成隔热层，形成与领域的材料的不同腐蚀速率通过降低晶片，通过细化顶部硅片上的洞
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2013-05-23 12:28:18
制作过程工艺最终导致微机电系统(MEMS)结构涉及表面层上形成绝缘层,形成了地区与不同的材料通过蚀刻速率较低模腔晶片,晶片的顶部
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