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2013-05-23 12:21
求翻译：Method for thinning active silicon layer of silicon-on-insulator type substrate in optoelectronics field, involves subjecting oxide layer to deoxidation process to force silicon layer to be thin with uniform thickness是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Method for thinning active silicon layer of silicon-on-insulator type substrate in optoelectronics field, involves subjecting oxide layer to deoxidation process to force silicon layer to be thin with uniform thickness
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
方法减薄的光电场硅绝缘体上型衬底的有源硅层，包括使氧化层到脱氧处理，以强制硅层要薄带厚度均匀
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2013-05-23 12:23:18
变薄的绝缘体上硅薄膜类型基体活跃硅层数方法在光电子学领域的，介入服从氧化物层数到脱氧过程到力量硅层数是稀薄的与一致的厚度
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2013-05-23 12:24:58
方法为变薄硅在绝缘体类型基体活跃硅层数在光电子学领域，介入服从氧化物层数到脱氧过程到力量硅层数是稀薄的以一致的厚度
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2013-05-23 12:26:38
变薄活性硅层绝缘体上硅类型基板在光电领域的方法涉及到服从以脱氧过程，迫使硅层要薄与厚度均匀的氧化层
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2013-05-23 12:28:18
处于活动状态的方法细化硅层的硅芯片的绝缘基材类型在光电子领域,涉及到使氧化物层deoxidation进程强制芯片层,薄厚度一致
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