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2013-05-23 12:21
求翻译：Reduction of roughness of free surface of semiconductor wafer used in, e.g., microelectronics by purging annealing atmosphere before rapid thermal annealing to establish controlled purged atmosphere allowing reduction of pollutants on wafer是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Reduction of roughness of free surface of semiconductor wafer used in, e.g., microelectronics by purging annealing atmosphere before rapid thermal annealing to establish controlled purged atmosphere allowing reduction of pollutants on wafer
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
通过减少吹扫退火气氛快速热退火建立控制清除气氛让晶圆上减少污染物之前使用的，例如，微电子半导体晶片的自由表面粗糙度
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2013-05-23 12:23:18
半导体片自由表面的坎坷的减少清洗的用于，即，微电子学焖火大气在迅速热量焖火前建立受控被清洗的大气允许污染物的减少在薄酥饼的
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2013-05-23 12:24:58
半导体片自由表面的坎坷的减少清洗的用于，即，微电子学焖火大气在迅速热量焖火之前建立受控被清洗的大气允许污染物的减少在薄酥饼
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2013-05-23 12:26:38
减少的半导体外延片的自由表面粗糙度用的例如，由泻退火大气之前快速热退火建立控制微电子清除允许减少污染物在硅片上的气氛
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2013-05-23 12:28:18
减少的粗糙的表面上使用的半导体晶片,例如微电子通过清除之前退火气氛迅速散热退火,建立受控氛围中清除污染物的减少,在晶片
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