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2013-05-23 12:21
求翻译：The surface of the silicon or silicon-germanium layer is cleaned using the standard clean 1 solution under conditions of concentration and temperature before the Radio Corporation of America (RCA) cleaning stage, thus permitting to eliminate the contaminants and to passivate the minor defects in order to avoid the appe是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
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The surface of the silicon or silicon-germanium layer is cleaned using the standard clean 1 solution under conditions of concentration and temperature before the Radio Corporation of America (RCA) cleaning stage, thus permitting to eliminate the contaminants and to passivate the minor defects in order to avoid the appe
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
在硅或硅 - 锗层的表面是用美国（RCA）清洁级的无线电团前的浓度和温度条件下的标准清洁1溶液，从而允许以消除污染物，并以钝化，以便在次要缺陷清理为了避免氢氟酸（HF）缺陷的外观，而不攻击层。该方法允许利用该溶液在环境温度下，从而避免了需要利用一个加热单元，并简化硅层表面清洁级的控制。
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2013-05-23 12:23:18
硅或硅锗层数的表面被清洗使用标准在集中和温度的情况下清洗1种解答在Radio美国(RCA)因而清洁阶段Corporation前，允许消灭污染物和钝化小毛病为了避免氢氟酸(HF)瑕疵出现，无需攻击层数。
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2013-05-23 12:24:58
硅或硅锗层数的表面使用标准被清洗在集中和温度的情况下清洗1种解答在Radio美国RCA清洁 (阶段) Corporation前，因而允许消灭污染物和钝化小毛病为了避免氢氟酸HF瑕疵 (出现) ，无需攻击层数。 方法允许运用解答在周围温度，因而避免需要运用热量单位和简化硅层数表面清洁阶段的控制。
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2013-05-23 12:26:38
正在翻译，请等待...
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2013-05-23 12:28:18
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