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2013-05-23 12:21
求翻译：Wafer e.g. silicon on insulator structure, treating method for e.g. discrete device production, involves cleaning silicon or silicon-germanium layer surface using standard clean 1 solution in concentration and ambient temperature conditions是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
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Wafer e.g. silicon on insulator structure, treating method for e.g. discrete device production, involves cleaning silicon or silicon-germanium layer surface using standard clean 1 solution in concentration and ambient temperature conditions
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
例如晶圆绝缘体上硅结构，治疗方法如：分立器件的生产，包括使用标准清洁1溶液中的浓度和环境温度条件下清洗硅或硅 - 锗层表面
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2013-05-23 12:23:18
即即薄酥饼绝缘体上硅薄膜结构，对待分离设备生产的方法，介入清洗硅或硅锗使用标准的层数表面清洗在集中和周围温度情况的1种解答
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2013-05-23 12:24:58
薄酥饼即。 硅在绝缘体结构，对待方法为即。 分离设备生产，介入清洁硅或硅锗层数表面使用标准在集中和周围温度情况清洗1种解答
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2013-05-23 12:26:38
硅片上绝缘子结构，治疗方法为例如离散设备生产，例如硅涉及清洗硅锗层表面使用标准清洁 1 溶液的浓度和环境温度条件
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2013-05-23 12:28:18
例如硅晶片的绝缘结构,治疗方法例如离散设备生产,涉及清洁硅或硅锗层表面清洁1使用标准解决方案集中和环境温度条件下
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