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2013-05-23 12:21
求翻译：The method enables permitting forming of insulating layers in the substrate in a precise and economic manner. The method enables permitting precisely controlling the formation of the layer of cavities by carrying out implantation in the homogeneous substrate without using special ions such as heavy rare gas ions. The m是什么意思？ 待解决
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The method enables permitting forming of insulating layers in the substrate in a precise and economic manner. The method enables permitting precisely controlling the formation of the layer of cavities by carrying out implantation in the homogeneous substrate without using special ions such as heavy rare gas ions. The m
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
该方法能够允许以精确的和经济的方式绝缘层在所述基板的形成。该方法能够允许精确地控制通过执行植入的同质衬底，而无需使用特殊的离子如重稀有气体离子形成腔体的层构成。该方法能够允许精确地控制腔通过所述绝缘层的层的覆盖水平，停止在基片所希望的地方在一个完整的方式在绝缘层的形成面。
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2013-05-23 12:23:18
方法使能允许的形成在基体的绝缘层以精确和经济方式。方法使能精确地控制洞层数的形成的允许由在同类的基体的执行的安放，无需使用特别离子例如重的稀有气体离子。
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2013-05-23 12:24:58
方法在基体使能允许的形成绝缘层以精确和经济方式。 方法在同类的基体使能精确地控制洞层数的形成的允许由执行的安放，无需使用特别离子例如重的稀有气体离子。 方法在一个期望地方使能允许精确地控制洞层数的覆盖物水平由绝缘层和停止绝缘层的形成面孔在基体以完全方式。
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2013-05-23 12:26:38
该方法使允许形成隔热层在基体中以精确和经济的方式。该方法使允许精确控制形成的空腔层通过开展植入均匀基质中无需使用特殊离子如重型稀有气体离子。该方法使允许精确地控制腔由隔热层的图层覆盖物级别和完整的方式停止在理想的地方在基体中隔热层的形成脸。
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2013-05-23 12:28:18
这种方法可以允许形成绝缘层中的基材中的精确和最经济的方式。 这种方法可以允许精确地控制形成的模腔的一层进行统一安置在基材而不使用特殊离子如重型稀有气体离子。 这种方法可以允许精确地控制一个涵盖一级的图层的模腔的隔热层和停止形成面对在一个绝缘层中所需的位置中的基材方式完成的。
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