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2013-05-23 12:21
求翻译：Method for formation of partially relaxed strained material layer during manufacturing of semiconductor device e.g. LED, photovoltaic and laser devices (all claimed).是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Method for formation of partially relaxed strained material layer during manufacturing of semiconductor device e.g. LED, photovoltaic and laser devices (all claimed).
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
方法用于制造半导体器件，例如过程中形成的部分松弛的应变材料层的领导，光伏和激光设备（所有声称）。
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2013-05-23 12:23:18
部分地在半导体装置期间LED制造业的轻松的紧张的物质层的形成的即方法，光致电压和激光设备(所有被要求)。
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2013-05-23 12:24:58
方法为部份地轻松的被劳损的物质层的形成在半导体装置期间制造业即。 所有被要求的LED，光致电压和 (laser设备)。
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2013-05-23 12:26:38
层在半导体器件的制造过程，如 LED、 光伏和激光设备 (所有声称) 形成局部放宽应变材料的方法。
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2013-05-23 12:28:18
组成方法放松紧张部分材料层在制造半导体设备如LED、光伏和激光设备[所有索赔]。
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