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2013-05-23 12:21
求翻译：System useful for gas treatment of at least one substrate, comprises reaction chamber, substrate support structure for holding one substrate arranged in reaction chamber, static gas injector, and at least one movable gas injector是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
System useful for gas treatment of at least one substrate, comprises reaction chamber, substrate support structure for holding one substrate arranged in reaction chamber, static gas injector, and at least one movable gas injector
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
系统，用于在至少一个基材的气体可用于治疗，包括反应室，衬底支撑结构，用于保持配置在反应室中，静态气体喷射器和至少一个可移动的气体注入器1基板
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2013-05-23 12:23:18
系统有用为至少一个基体的气体治疗，在反应房间包括反应房间、基体支持结构拿着的一个基体被安排，静态气体注入器和至少一个可移动的气体注入器
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2013-05-23 12:24:58
系统有用为至少一个基体的气体治疗，包括反应房间、基体支持结构为在反应房间安排的藏品一基体，静态气体注射器和至少一个可移动的气体注射器
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2013-05-23 12:26:38
系统有用至少一个基体气体治疗包括反应室里，举行一个基体排列在反应室、 静态气体喷油器和至少一个移动式瓦斯喷油器中衬底支持结构
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2013-05-23 12:28:18
系统可用于气体净化的至少一个基材,包括反应室、基材支持结构安排举行一个承印物在反应室、静态气体喷油嘴,至少有一个可移动气体喷油嘴
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