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2013-05-23 12:21
求翻译：Deposition system for depositing semiconductor material, comprises substantially enclosed reaction chamber having top wall, bottom wall and side wall, susceptor and gas input system having precursor gas furnace and precursor gas flow path是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Deposition system for depositing semiconductor material, comprises substantially enclosed reaction chamber having top wall, bottom wall and side wall, susceptor and gas input system having precursor gas furnace and precursor gas flow path
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
用于沉积半导体材料的沉积系统，包括：基本封闭的反应室具有顶壁，底壁和侧壁，基座和气体输入系统，具有前体气体炉和前体气体流路
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2013-05-23 12:23:18
放置的半导体材料的证言系统，包括极大地有附上的反应的房间有顶面墙壁，底盘和侧面墙、susceptor和气体的输入系统前体煤气炉和前体气体流程道路
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2013-05-23 12:24:58
证言系统为放置的半导体材料，包括极大地附上的反应房间有顶面墙壁，底盘和侧面墙、susceptor和气体输入系统有前体煤气炉和前体气体流程道路
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2013-05-23 12:26:38
沉积系统存放的半导体材料，包括极大地封闭的反应室有顶层墙，底部墙和侧墙，有前体燃气炉和前体气体流动路径的热感和气体输入的系统
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2013-05-23 12:28:18
沉积系统存放的半导体材料,包括大幅封闭反应分庭的顶壁、底部墙和侧墙上,susceptor和气体输入系统,具有先导燃气炉和前体气体流动路径
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