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2013-05-23 12:21
求翻译：Fabrication method of semiconductor structure, involves forming molybdenum nitride at substantially planar surface of substrate comprising molybdenum, and providing layer of gallium-nitride over substantially planar surface of substrate是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Fabrication method of semiconductor structure, involves forming molybdenum nitride at substantially planar surface of substrate comprising molybdenum, and providing layer of gallium-nitride over substantially planar surface of substrate
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
半导体构造的制造方法，包括形成氮化钼在衬底，其包括钼的基本上平面的表面，并提供镓氮化物层在衬底的基本上平面的表面
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2013-05-23 12:23:18
半导体结构制造方法，介入形成钼氮化物在极大地包括钼和提供镓氮化物的层数在极大地基体平面表面的基体平面表面
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2013-05-23 12:24:58
半导体结构制造方法，介入形成钼氮化物在极大地包括钼和提供基体镓氮化物极大地平面表面的层数基体平面表面
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2013-05-23 12:26:38
涉及到极大地平面表面上的基体组成钼、 并提供层的氮化镓衬底极大地平面表面形成氮化钼的半导体结构的制作方法
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2013-05-23 12:28:18
制造方法的半导体结构,涉及到形成二流化钼超高压氮化物在大幅平面组成的基材表面钼、并提供层砷化镓氮化物在表面上的大幅面纸张
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