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2013-05-23 12:21
求翻译：The process allows the production of semiconductor structures in which there may be a need for one or more holes in the insulating layer and allows the definition of regions or zones of the insulating layer having different engraving speeds. The cavities can be cylindrical or semi-cylindrical or partially elliptical or是什么意思？ 待解决
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- 离问题结束还有
The process allows the production of semiconductor structures in which there may be a need for one or more holes in the insulating layer and allows the definition of regions or zones of the insulating layer having different engraving speeds. The cavities can be cylindrical or semi-cylindrical or partially elliptical or
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
该过程允许生产半导体结构，其中可能有必要在绝缘层的一个或多个孔，并允许具有不同的雕刻速度，绝缘层的区域或区段的定义。空腔可以是圆柱形或半圆柱形的或部分椭圆形的或部分多边形的。
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2013-05-23 12:23:18
过程允许的半导体结构生产也许有对一个或更多孔的需要在绝缘层并且允许的绝缘层的地区或区域的定义有不同的板刻速度。洞可以圆柱形或半柱面形或者部分地省略或者部分地多角形。
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2013-05-23 12:24:58
过程允许的半导体结构生产也许有对一个或更多孔的需要在绝缘层并且允许绝缘层的地区或区域的定义有不同的板刻速度。 洞可以圆柱形或semi-cylindrical或者部份地省略或者部份地多角形。
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2013-05-23 12:26:38
进程允许生产的半导体结构中，可能需要在隔热层中的一个或多个孔和允许定义的地区或区域的隔热层有不同的雕刻的速度。型腔可以是圆柱形或半圆柱形或部分椭圆或部分多边形。
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2013-05-23 12:28:18
这一过程允许生产的半导体结构,其中,可能需要有一定的一个或多个孔的绝缘层中,使定义的地区或分区的绝缘层的具有不同雕刻速度。 腔体可以在圆柱形或半圆柱形或部分椭圆或部分多边形。
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