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2013-05-23 12:21
求翻译：Active layer formation method in e.g. silicon germanium on insulator structure, involves supplying energy to relax elastic strains in strained layer of wafer, and removing portion of wafer on opposite side of relaxed strained layer是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Active layer formation method in e.g. silicon germanium on insulator structure, involves supplying energy to relax elastic strains in strained layer of wafer, and removing portion of wafer on opposite side of relaxed strained layer
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
例如在活性层的形成方法上绝缘体结构的硅锗，涉及提供能量来放松弹性应变在晶片的应变层，并在松弛的应变层的相对侧上除去晶片的部
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2013-05-23 12:23:18
在硅锗的即活跃层数形成方法在绝缘体结构，介入提供能量放松在薄酥饼紧张的层数的弹性应变和去除薄酥饼的部分在轻松的紧张的层的反面的
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2013-05-23 12:24:58
活跃层数形成方法在即。 硅锗在绝缘体结构，在薄酥饼被劳损的层数在轻松的被劳损的层的反面介入提供能量放松弹性应变和去除薄酥饼的部分
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2013-05-23 12:26:38
例如硅锗对绝缘子结构中的现用图层形成方法涉及到提供能源，放松紧张层的硅片，弹性株和去除部分的另一侧的放松紧张层硅片
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2013-05-23 12:28:18
活动图层组建方法,例如硅锗的绝缘结构,涉及能源弹性压力放松在紧张层的晶片和晶圆的删除部分的另一侧的紧张放松层
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