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2013-05-23 12:21
求翻译：The rapid thermal anneal process is performed at high temperature without diffusion of ion from one layer to another. The anneal process reduces post-detachment roughness prior to selective etching and stabilizes the bonding interface to limit problems with delamination during selective etching.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
The rapid thermal anneal process is performed at high temperature without diffusion of ion from one layer to another. The anneal process reduces post-detachment roughness prior to selective etching and stabilizes the bonding interface to limit problems with delamination during selective etching.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
在高温下进行快速热退火过程中没有离子从一层扩散到另一个地方。在退火处理之前选择性蚀刻降低后脱离粗糙度和稳定的键合界面中选择的蚀刻，以限制问题脱层。
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2013-05-23 12:23:18
迅速上升暖流锻炼过程执行在高温，不用离子扩散从一层数的到另一个。在有选择性的蚀刻期间，锻炼过程在有选择性的蚀刻之前减少之后独立小分队坎坷并且稳定接合接口限制分层法的问题。
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2013-05-23 12:24:58
迅速上升暖流锻炼过程执行在高温，不用离子扩散从一层数到另一个。 在有选择性的蚀刻期间，锻炼过程在有选择性的蚀刻之前减少岗位独立小分队坎坷并且稳定接合接口限制问题以分层法。
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2013-05-23 12:26:38
快速热退火工艺在高温不扩散的离子从一层到另一个的情况下执行的。退火过程减少了之前选择性蚀刻后脱离粗糙度和稳定粘结界面，以限制期间选择性蚀刻分层的问题。
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2013-05-23 12:28:18
快速热退火过程在较高的温度而不弥散的离子从一个层到另一个。 在退火过程减少了开机自检的分遣队之前,粗糙度选择性刻蚀和稳定的粘接界面剥离问题限制在选择性刻蚀。
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