|
关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：Oxidizing method for surface region of silicon-germanium layer of semiconductor substrate involves performing high temperature annealing of silicon-germanium layer in inert gas atmosphere after oxidizing thermal treatment is performed是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Oxidizing method for surface region of silicon-germanium layer of semiconductor substrate involves performing high temperature annealing of silicon-germanium layer in inert gas atmosphere after oxidizing thermal treatment is performed
问题补充： |
|
2013-05-23 12:21:38
对于半导体衬底的硅 - 锗层的表面区域的氧化方法涉及氧化热处理之后进行，在惰性气氛中的硅 - 锗层的高温退火进行
|
|
2013-05-23 12:23:18
半导体基体硅锗层的表面区域的氧化的方法介入进行硅锗层高温焖火在惰性气体大气在氧化的热量治疗以后执行
|
|
2013-05-23 12:24:58
氧化的方法为半导体基体硅锗层的表面区域介入进行硅锗层高温度焖火在惰性气体大气在氧化的热量治疗以后执行
|
|
2013-05-23 12:26:38
氧化硅锗层半导体基板的表面区域方法涉及执行高温退火硅锗层惰性气体大气中的氧化热治疗执行后
|
|
2013-05-23 12:28:18
氧化的方法表面区域的硅锗层的半导体基片涉及到进行高温回火处理的硅锗层在惰性气体后氧化气氛热执行治疗
|
湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区
