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2013-05-23 12:21
求翻译：Manufacture of silicon dioxide layer for electronics, involves depositing silicon dioxide layer over substrate by low pressure chemical vapor deposition employing flow of tetraethylorthosilicate and flow of diluent gas, and annealing是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Manufacture of silicon dioxide layer for electronics, involves depositing silicon dioxide layer over substrate by low pressure chemical vapor deposition employing flow of tetraethylorthosilicate and flow of diluent gas, and annealing
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
制造二氧化硅层为电子，包括通过低压化学气相沉积采用流正硅酸四乙酯和流稀释气体，以及退火淀积的二氧化硅层在衬底
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2013-05-23 12:23:18
电子的二氧化硅层制造，介入放置二氧化硅层数在基体由锻炼低压的化学气相沉积使用tetraethylorthosilicate稀释剂气体流程和流程和
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2013-05-23 12:24:58
二氧化硅层制造为电子，介入放置二氧化硅层数在基体由低压化学气相沉积使用tetraethylorthosilicate稀释剂气体流程和流程和锻炼
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2013-05-23 12:26:38
制造电子产品的硅氧化层、 涉及雇用的二氧化硅和的稀释气体的流通和退火的低压化学气相沉积在衬底沉积硅氧化层
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2013-05-23 12:28:18
生产的二氧化硅层的电子设备,包括交存二氧化硅层基材的低压力化学气相沉积法的采用流tetraethylorthosilicate和稀释气体的流量,和退火
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