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2013-05-23 12:21
求翻译：The method is used in the fabrication of substrates by stacking thin layers of semiconductor materials, preferably applicable for thin monocrystalline layers, such as the production of substrates with a thin film of InP rendered semi-insulating by diffusion of iron for microelectronics and optoelectronic applications.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
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The method is used in the fabrication of substrates by stacking thin layers of semiconductor materials, preferably applicable for thin monocrystalline layers, such as the production of substrates with a thin film of InP rendered semi-insulating by diffusion of iron for microelectronics and optoelectronic applications.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
该方法是通过层叠薄的层的半导体材料，优选适用于薄单晶硅层，如在生产基片的与INP的呈现的半绝缘性的铁的扩散对于微电子和光电子应用的薄膜中使用的基板的制造。
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2013-05-23 12:23:18
方法用于生产基体通过堆积更适宜地可适用半导体材料的薄层，为稀薄的单晶质的层数，例如基体的生产与铁扩散回报的半绝缘InP薄膜的为微电子学和光电子应用。
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2013-05-23 12:24:58
方法用于生产基体通过堆积半导体材料薄层，更好地可适用为稀薄的单晶质的层数，例如基体的生产与铁扩散回报的半绝缘薄膜InP为微电子学和光电子应用。
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2013-05-23 12:26:38
方法在基体材料的制备由使用的半导体材料，最好是适用于薄单晶硅层堆叠薄层如与薄膜的 InP 衬底的生产呈现半绝缘的微电子和光电子应用铁的扩散。
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2013-05-23 12:28:18
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