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2013-05-23 12:21
求翻译：Method for forming an epitaxial layer for fabricating a semiconductor on insulator (SeOI) structure e.g. gallium arsenide on insulator structure, gallium nitride on insulator structure or stained silicon on insulator structure, in electronic, micro-electronic or optoelectronic applications.是什么意思？ 待解决
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Method for forming an epitaxial layer for fabricating a semiconductor on insulator (SeOI) structure e.g. gallium arsenide on insulator structure, gallium nitride on insulator structure or stained silicon on insulator structure, in electronic, micro-electronic or optoelectronic applications.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
方法对绝缘子（脊背负）的结构，例如制造半导体形成外延层砷化镓上的绝缘体结构，氮化镓绝缘体上的结构或绝缘体上的结构，在电子，微型电子或光电子应用染色硅。
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2013-05-23 12:23:18
形成的一块外延层方法制造的在绝缘体(SeOI)即结构砷化镓的一个半导体在绝缘体结构，在绝缘体结构或被弄脏的绝缘体上硅薄膜结构的镓氮化物，在电子，微电子学或者光电子应用。
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2013-05-23 12:24:58
方法为形成一块外延层为在绝缘体SeOI结构制造 (一个) 半导体即。 砷化镓在绝缘体结构、镓氮化物在绝缘体结构或被弄脏的硅在绝缘体结构，在电子，微电子学或者光电子应用。
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2013-05-23 12:26:38
制作绝缘体 (SeOI) 上的半导体外延层形成方法在结构绝缘子结构如砷化镓、 氮化镓绝缘子结构或染色的绝缘子结构、 硅电子、 微型电子或光电应用程序。
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2013-05-23 12:28:18
方法用于形成一个外延层,编造一个半导体的绝缘[世馨]结构如砷化镓等的绝缘结构、砷化镓氮化物的绝缘结构或有污点的绝缘硅结构,在电子、微电子或光学电子仪器。
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