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2013-05-23 12:21
求翻译：Cleaning process for cleaning substrate (claimed) used as base substrate for epitaxial growth in fields of microelectronics, micromechanics, integrated optics and integrated electronics.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Cleaning process for cleaning substrate (claimed) used as base substrate for epitaxial growth in fields of microelectronics, micromechanics, integrated optics and integrated electronics.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
清洗过程中清洗用作微电子，微机械，集成光学和集成电子领域的外延生长基础衬底基片（自称）。
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2013-05-23 12:23:18
清洗的基体清洁过程(被要求)作为基本的基体用于外延生长在微电子学、微力学、联合光学和联合电子领域。
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2013-05-23 12:24:58
清洁过程为清洗基体 (被要求) 使用作为基本的基体为外延生长在微电子学、微力学、联合光学和联合电子领域。
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2013-05-23 12:26:38
清洗清洗衬底 (索赔) 用于为基底的微电子、 细观力学、 集成的光学和综合的电子领域外延生长的过程。
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2013-05-23 12:28:18
清洁纸张[要求]作为基材为外延生长的微电子、复合材料、集成光学器件和集成电子元件。
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