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2013-05-23 12:21
求翻译：Cleaning process for cleaning substrate used as base substrate for epitaxial growth involves drying substrate rinsed with de-ionized water after cleaning substrate with aqueous solution containing hydrofluoric (HF) acid是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Cleaning process for cleaning substrate used as base substrate for epitaxial growth involves drying substrate rinsed with de-ionized water after cleaning substrate with aqueous solution containing hydrofluoric (HF) acid
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
用于清洁用作外延生长基底衬底基片清洗方法涉及漂洗用去离子水干燥衬底清洗基板与含有氢氟酸（HF）酸水溶液后
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2013-05-23 12:23:18
清洗的作为基本的基体的基体清洁过程用于外延生长用被去离子的水介入烘干在清洗基体以后被漂洗的基体与包含水力电气的(HF)酸的水溶液
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2013-05-23 12:24:58
清洁过程为清洗基体使用作为基本的基体为外延生长用被去离子的水介入烘干在清洁基体以后被漂洗的基体用包含水力电气的HF酸的 () 水溶液
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2013-05-23 12:26:38
清洗清洗衬底为基底物用于外延生长的过程涉及到干燥衬底清洗衬底与水溶液含氢氟酸 （HF） 后用去离子水漂洗
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2013-05-23 12:28:18
清洁纸张作为基材为外延生长涉及干燥基材用清水冲洗去离子水清洗后承印物与水溶性解决方案,包含氢氟酸[HF]酸
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