|
关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：Method for manufacturing semiconductor on insulator (SeOI) with thin buried oxide layer, involves diffusing oxide layer through working layer in order to increase interface quality of substrate and decrease dit value是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Method for manufacturing semiconductor on insulator (SeOI) with thin buried oxide layer, involves diffusing oxide layer through working layer in order to increase interface quality of substrate and decrease dit value
问题补充： |
|
2013-05-23 12:21:38
方法对绝缘子（脊背负）与薄氧化物埋层的制造半导体，包括通过工作层扩散氧化层，以提高基材和减少二叔值的界面质量
|
|
2013-05-23 12:23:18
制造的半导体方法在绝缘体(SeOI)与稀薄的被埋没的氧化物层数，介入散开氧化物层数通过运作的层数为了增加基体的接口质量和减少dit价值
|
|
2013-05-23 12:24:58
方法为制造半导体在绝缘体 (SeOI) 以稀薄的被埋没的氧化物层数，介入散开氧化物层数通过运作的层数为了增加基体的接口质量和减少dit价值
|
|
2013-05-23 12:26:38
方法用于制造半导体与薄埋的氧化层、 绝缘体 (SeOI) 上涉及扩散通过工作层以提高界面质量的衬底和 dit 值减少氧化层
|
|
2013-05-23 12:28:18
方法的绝缘半导体制造业[世馨]瘦埋氧化物层,涉及传播氧化物层通过工作层,以增加接口质量的基材,并减少DIT值
|
湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区
