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2013-05-23 12:21
求翻译：Epitaxial material layer forming method for e.g. optical field, involves forming bonding layer by vapor deposition of silica layer with specific thickness, where heat treatment is realized at temperature higher than deposition temperature是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Epitaxial material layer forming method for e.g. optical field, involves forming bonding layer by vapor deposition of silica layer with specific thickness, where heat treatment is realized at temperature higher than deposition temperature
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
外延材料层的形成方法为例如光学领域，涉及通过二氧化硅层具有特定的厚度，其中热处理是实现在温度高于沉积温度高的汽相淀积形成的接合层
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2013-05-23 12:23:18
形成光学领域的即外延物质层数方法，介入形成结合的层数由硅土层的蒸气喷镀与具体厚度，热治疗高于证言温度体会在温度
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2013-05-23 12:24:58
形成方法为即的外延物质层数。 光学领域，介入形成接合层数由硅土层的蒸气证言以具体厚度，热治疗证言温度体会在温度更加高于
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2013-05-23 12:26:38
外延材料层形成方法例如光学领域，涉及到粘接层气相沉积硅层的形成与具体的厚度，热处理在温度高于沉积温度实现了哪里
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2013-05-23 12:28:18
外延材料层形成方法,例如光盘”字段中,涉及到形成粘结层的蒸气沉积硅层的厚度与具体,即热治疗是在温度高于沉积温度
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