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2013-05-23 12:21
求翻译：Rough silicon interface forming method for e.g. silicon substrate, involves forming irregular surface of oxidized material deposit on initial surface of substrate, and forming interfaces in substrate by thermal oxidation of material是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Rough silicon interface forming method for e.g. silicon substrate, involves forming irregular surface of oxidized material deposit on initial surface of substrate, and forming interfaces in substrate by thermal oxidation of material
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
对于例如粗糙的硅界面的形成方法硅衬底，包括形成的氧化物质存不规则表面上衬底的初始表面，并通过材料的热氧化形成在衬底界面
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2013-05-23 12:23:18
形成硅体的即概略的硅接口方法，在基体介入形成被氧化的物质储蓄不规则的表面基体最初的表面上的和形成接口由材料的热量氧化作用
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2013-05-23 12:24:58
形成方法为即的概略的硅接口。 硅体，在基体在基体最初的表面介入形成被氧化的物质储蓄不规则的表面和形成接口由材料的热量氧化作用
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2013-05-23 12:26:38
粗硅界面如硅衬底的成型方法，涉及到成形不规则表面的氧化物质存款初始的衬底，表面上与热氧化的材料成形基体中的接口
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2013-05-23 12:28:18
毛坯成形法硅芯片接口,例如硅基材、涉及到形成不规则表面的氧化材料沉积在基材表面的初始,形成界面的承印物的热氧化的材料
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