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2013-05-23 12:21
求翻译：The invention provides methods that can be used to reduce lattice parameter mismatch between adjacent layers, and the resulting lattice strain to it, in semiconductor structures and devices such as, for example, engineered substrates, integrated circuit (IC) devices, radiation emitting devices, and radiation sensor dev是什么意思？ 待解决
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The invention provides methods that can be used to reduce lattice parameter mismatch between adjacent layers, and the resulting lattice strain to it, in semiconductor structures and devices such as, for example, engineered substrates, integrated circuit (IC) devices, radiation emitting devices, and radiation sensor dev
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
本发明提供的方法可用于降低相邻层之间的晶格参数不匹配，将所得的晶格应变它，在半导体结构和诸如，装置，例如，工程衬底，集成电路（IC）器件，辐射发射器件，和辐射传感器设备。
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2013-05-23 12:23:18
例如，发明提供可以用于减少格子毗邻层数之间的参量配错的方法和发生的格子张力给它，在半导体结构和设备例如设计的基体、集成电路(集成电路)设备、辐射散发设备的和辐射传感器设备。
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2013-05-23 12:24:58
发明提供可以用于减少格子毗邻层数之间的参量配错的方法和发生的格子张力给它，在半导体结构和设备例如，例如，设计的基体、集成电路 (集成电路) 设备、辐射散发设备的和辐射传感器设备。
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2013-05-23 12:26:38
发明提供可用于减少相邻层之间的晶格参数不匹配的方法，所造成的晶格压力到它，在半导体结构和设备，例如，设计基板、 集成电路 (IC) 设备、 辐射发光器件和辐射传感器设备。
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2013-05-23 12:28:18
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