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  • 匿名
关注:1 2013-05-23 12:21

求翻译:Manufacturing silicon on insulator by forming a structure by forming a first etch stop layer, forming a second etch stop layer, and forming a thin silicon film, and bonding the structure to a target substrate by a buried oxide layer是什么意思?

待解决 悬赏分:1 - 离问题结束还有
Manufacturing silicon on insulator by forming a structure by forming a first etch stop layer, forming a second etch stop layer, and forming a thin silicon film, and bonding the structure to a target substrate by a buried oxide layer
问题补充:

  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
通过形成第一蚀刻停止层,形成第二蚀刻停止层,并形成薄硅膜,并通过埋入氧化层粘结结构到目标基板上形成的结构的绝缘体上硅的制造
  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
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  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
制造业硅在绝缘体通过形成一个结构通过形成第一铭刻中止层数,形成第二铭刻中止层数和形成一部稀薄的硅影片和结合结构与一个目标基体由被埋没的氧化物层数
  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
通过形成一种结构的形成第一次制造的绝缘体上硅蚀刻停止层,形成第二次蚀刻阻挡层形成薄硅膜,和由埋的氧化层粘接到目标衬底结构
  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
正在翻译,请等待...
 
 
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