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2013-05-23 12:21
求翻译：Silicon-on-insulator substrate finishing method for fabricating e.g. opto-electronic components, involves sacrificially oxidizing active layer of oxidized and annealed substrate so as to remove oxide thickness是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Silicon-on-insulator substrate finishing method for fabricating e.g. opto-electronic components, involves sacrificially oxidizing active layer of oxidized and annealed substrate so as to remove oxide thickness
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
硅 - 绝缘体衬底精加工的制造方法，例如光电元件，介入牺牲氧化，氧化和退火衬底的有源层，以除去氧化层的厚度
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2013-05-23 12:23:18
即绝缘体上硅薄膜基体制造的光电子组分精整方法，介入牺牲氧化被氧化的和锻炼的基体活跃层数以便取消氧化物厚度
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2013-05-23 12:24:58
硅在绝缘体基体精整方法为制造即。 光电子组分，介入牺牲氧化被氧化的和锻炼的基体活跃层数以便取消氧化物厚度
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2013-05-23 12:26:38
绝缘体上硅衬底整理例如制造光电组件方法涉及到腊氧化现用图层的氧化和退火，以消除氧化厚度基板
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2013-05-23 12:28:18
硅绝缘基材表面处理其制造方法例如光电组件,涉及sacrificially氧化活动图层的氧化退火基材,以便去除氧化层厚度
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