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2013-05-23 12:21
求翻译：Germanium substrate treatment method for microelectronic device, involves using iodine and bromine free solution, and another solution having hydrofluoric acid, hydrogen peroxide, water, and hydrochloric acid to treat germanium surface是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Germanium substrate treatment method for microelectronic device, involves using iodine and bromine free solution, and another solution having hydrofluoric acid, hydrogen peroxide, water, and hydrochloric acid to treat germanium surface
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
锗衬底处理方法的微电子器件，包括使用碘和溴游离溶液中，并具有氢氟酸，过氧化氢，水和盐酸来治疗锗表面另一种解决方案
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2013-05-23 12:23:18
使用碘和溴自由解答，锗基体微电子学设备的治疗方法，介入和有另一种的解答氢氟酸、过氧化氢、水和对待的盐酸锗表面
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2013-05-23 12:24:58
锗基体治疗方法为微电子学设备，使用碘和溴自由解答介入和另一种解答有氢氟酸、过氧化氢、水和盐酸对待锗表面
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2013-05-23 12:26:38
微电子器件的锗基板处理方法涉及到使用碘和溴免费解决方案和另一种解决方案有氢氟酸、 过氧化氢、 水和盐酸酸锗表面处理
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2013-05-23 12:28:18
锗金属基材处理方法的微电子设备,涉及到使用碘和溴免费的解决方案,另一个解决方案在氢氟酸酸、过氧化氢、水、和盐酸锗表面处理
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