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2013-05-23 12:21
求翻译：The deposition system: utilizes the metal halides that are generally smaller, more reactive, thermally stable and usually leave small amounts of ligand residues in the deposited crystalline material, thus reducing the risk of steric hindrance and, as a result, reduce growth per cycle, and enabling the deposition withou是什么意思？ 待解决
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The deposition system: utilizes the metal halides that are generally smaller, more reactive, thermally stable and usually leave small amounts of ligand residues in the deposited crystalline material, thus reducing the risk of steric hindrance and, as a result, reduce growth per cycle, and enabling the deposition withou
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
沉积系统：利用了一般要小一些的金属卤化物，多反应性的，热稳定的，并且通常留下少量的配体残基所沉积的晶体材料中，从而减少空间位阻的风险，并且，作为结果，减少每个周期增长，和使沉积无热分解温度较高，而当相对于传统的沉积系统提供了显着增加吞吐量的III-V族半导体材料，从而降低制造成本。所述基板和所述歧管的相对运动使所述衬底的连续，连续暴露于不同的前体，无负载和由原子层沉积生长周期之间的反应室卸载所述基板。
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2013-05-23 12:23:18
那
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2013-05-23 12:24:58
证言系统： 运用一般是更小，更加易反应，热量地槽枥和通常把少量ligand残滓留在被放置的水晶材料，因而减少位的妨碍的风险，并且，结果，减少成长每周期和使能证言没有热分解在高温的金属卤化物; 并且提供III-V半导体材料的极大地增加的生产量，当与常规证言系统时比较和因而减少制造费用。 基体和多头管的相对移动使能基体的连续，连续暴露对不同的前体，无需装货和卸载基体从反应房间在原子层数证言生长周期之间。
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2013-05-23 12:26:38
沉积系统： 利用金属卤化物，通常较小，更无功，热稳定和通常在沉积的结晶材料，从而减少风险的空间位阻留少量的配体残留物，因此，降低增长每周期，并使不在较高温度下 ； 热分解沉积和提供了极大地增加了吞吐量 III-V 半导体材料常规沉积系统相比时并因此降低了制造成本。基板和歧管的相对运动使不同前体的基体的连续，连续暴露没有加载和卸载基板从原子层沉积生长周期之间的反应室。
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2013-05-23 12:28:18
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