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2013-05-23 12:21
求翻译：A better understanding of Chemical Vapour Deposition (CVD) process can be obtained by modelling the phenomena involved in CVD reactors. The established model is then a useful tool for industrial equipment design and for the optimization of operating conditions. The research for optimal operating conditions is done by a是什么意思？ 待解决
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A better understanding of Chemical Vapour Deposition (CVD) process can be obtained by modelling the phenomena involved in CVD reactors. The established model is then a useful tool for industrial equipment design and for the optimization of operating conditions. The research for optimal operating conditions is done by a
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
更好地理解化学气相沉积（CVD）工艺可以通过模拟涉及化学汽相淀积反应器中的现象来获得。所建立的模型，然后对工业设备的设计和操作条件的优化的有用工具。该研究为最佳操作条件是通过使用一个模型更合理和有效的方式完成的。该polycristalline硅沉积的自硅烷在LPCVD反应器的新技术的具体情况来说明该方法。假设和所需的模型的开发方法都和第一个讨论的，那么结果进行说明和比较的实验数据。终于，在原位磷掺杂多晶硅的更复杂的情况下进行了讨论。
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2013-05-23 12:23:18
对化学气相沉积(CVD)过程的更好的理解可以通过塑造在CVD反应器介入的现象获得。建立的模型是然后有用的工具为工业设备设计和为操作条件的优化。使用模型，优选的操作条件的研究由一个更加合理和有效方法完成。polycristalline硅证言的具体事例从硅酮的在LPCVD反应器一种新技术用于说明方法。
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2013-05-23 12:24:58
对化学气相沉积CVD过程的 (更好的) 理解可以通过塑造在CVD反应器介入的现象获得。 建立的模型是然后有用的工具为工业设备设计和为操作条件的优化。 研究为优选的操作条件由一个更加合理和更加高效率的方式完成使用模型。 polycristalline硅证言的具体事例从硅酮在LPCVD反应器一种新技术用于说明方法。 必要为模型的发展首先提出假说和方法并且被谈论，然后结果被描述并且与实验性数据比较。 终于，在原处磷被掺杂的polysilicon更加复杂的事例被谈论。
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2013-05-23 12:26:38
化学气相淀积 (CVD) 进程更好地了解可以通过模拟 CVD 反应器中所涉及的现象。建立的模型然后是一个有用的工具，用于工业设备的设计和优化的操作条件。最佳操作条件的研究是通过更合理和有效的方法，用一种模式。Polycristalline 硅沉积从硅烷在一项新技术中的 LPCVD 反应堆的具体情况用来说明该方法。假设和方法的必要模型的发展，并讨论了第一，然后描述的结果和实验数据相比。最后，讨论了原位磷掺杂多晶硅的更为复杂的情况。
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2013-05-23 12:28:18
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