求翻译：For the devices, direct deposition of the buffer layer on co-evaporated CIGS surfaces is made without any intermediate surface pre-treatment是什么意思？

待解决

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For the devices, direct deposition of the buffer layer on co-evaporated CIGS surfaces is made without any intermediate surface pre-treatment

问题补充：

匿名	2013-05-23 12:21:38 设备，共蒸发的CIGS表面上的缓冲层是由直接沉积而无需任何中间表面前处理

匿名	2013-05-23 12:23:18 对于这些设备,直接沉积的缓冲层的合作表面是cigs气化作了而不需要任何中间表面预处理

匿名	2013-05-23 12:24:58 为设备，缓冲层数的直接证言在co被蒸发的CIGS表面被做，不用任何中间表面预处理

匿名	2013-05-23 12:26:38 对于设备，直接沉积的缓冲层 co-evaporated CIGS 表面上是没有任何中间的表面预处理

匿名	2013-05-23 12:28:18 正在翻译，请等待...

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